超快极紫外（EUV）阿秒多层反射镜

简要描述：UltraFast Innovations (UFI)极紫外（EUV）阿秒多层反射镜
设计用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脉冲
具有38%峰值反射率的多层镀膜
≤1Å 表面粗糙度超抛光基底
另外提供专为 13.5nm 设计的极紫外（EUV）平面反射镜和极紫外（EUV）球面反射镜
备有现货库存
无最小起订量、无镀膜批次费用

产品型号：
厂商性质：经销商
更新时间：2024-08-29
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产品介绍

品牌	Edmund Optics	价格区间	面议
组件类别	光学元件	应用领域	综合

UltraFast Innovations (UFI)极紫外（EUV）阿秒多层反射镜

设计用于65eV（19nm）下的 330 阿秒脉冲

具有38%峰值反射率的多层镀膜

≤1? 表面粗糙度超抛光基底

另外提供专为 13.5nm 设计的极紫外（EUV）平面反射镜和极紫外（EUV）球面反射镜

备有现货库存

无最小起订量、无镀膜批次费用

通用规格

直径 (mm):

25.40 ±0.13

基底:

Fused Silica (Corning 7980)

后表面:

Commercial Polish

涂层规格:

Rs > 38% @ 65eV/19nm

涂层:

EUV Multilayer (19nm)

入射角 (°):

有效孔径 (%):

设计波长 DWL (nm):

边缘:

Fine Ground

表面粗糙度（埃）:

Center Energy (eV):

65 ±2

Bandwidth (eV):

Supported Pulse Duration:

330 attoseconds

边缘厚度 ET (mm):

6.35 ±0.20

型号

产品编码	标题
#16-765	25.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror
#16-766	25.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror
#16-767	25.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror

详细资料

UltraFast Innovations (UFI)的极紫外光(EUV/XUV)阿秒多层反射镜设计用于阿秒脉冲的转向、聚焦和整形。他们的多层膜中心位于65eV（19nm），带宽为6eV（1.8nm），为 S 偏振光提供38%的峰值反射率。这些反射镜支持持续时间为330阿秒的极紫外（EUV）脉冲。 UFI极紫外（EUV/XUV）阿秒反射镜是基于高次谐波（HHG）、自由电子激光器（FEL）或其他量子光学应用产生和整形阿秒脉冲的理想选择。

原子般精密的离子束沉积可以获得原子般光滑的镀膜。这些反射镜能够在不断增长的应用空间中高效精确地控制波长和光谱相位。亚秒科学突破了超快激光器的极限，提供了接触一些最基本的科学过程的机会，如：电子的运动。极紫外（EUV）反射镜也被称为XUV/软X射线反射镜。极紫外（EUV）阿秒多层反射镜背后的物理原理是来自多层膜堆叠的每个界面反射和散射 EUV 辐射的干涉。可提供直径为25.4mm的平面反射镜和凹面反射镜；如果您的应用需要定制中心能量、带宽或其他规格的极紫外（EUV）多层反射镜，请与我们联系。

技术数据